Face aux « mega-usines » du solaire, EnHelios NanoTech a l'ambition de développer et de commercialiser des lignes de production de films et panneaux photovoltaïques à couches minces sur substrat souple de 30 MW à bas coût qui, installées à proximité des lieux de distribution, seraient compétitives avec les filières silicium. Après une aide de la BPI pour la validation de son projet, elle vient de lancer un tour de table. Objectif : lever les 5 millions d'euros nécessaires à la mise au point du procédé de fabrication et d'un premier équipement de laboratoire …

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La jeune pousse française créée en mai dernier* mise exclusivement sur un procédé de dépôt de couches atomiques (ALD, pour Atomic Layer Deposition) appliqué à la technologie PV CIGS.

Dans environ un an, un deuxième tour de table de 9 millions d'euros devrait permettre de financer l'industrialisation avec, en ligne de mire, la construction de deux lignes de production, l'une pour servir de vitrine technologique dans les locaux de la société et l'autre pour la vente. EnHelios NanoTech compte travailler sur un substrat en polyimide et vise un rendement de conversion initial de 16 %. A la différence de sociétés comme le Suédois Midsummer, l'Allemand Manz ou encore les Américains Solopower ou Stion dont les solutions de production PV en technologie CIGS font appel à plusieurs techniques de fabrication (pulvérisation cathodique, co-évaporation, électrodéposition, sélénisation, dépôt en bain chimique, gravure, métallisation, etc), la jeune pousse française innove avec un procédé unique de dépôt de couches atomiques (ALD) et de haute précision des différents matériaux, réalisable avec une seule machine opérant à pression atmosphérique et sans étape de gravure. La fabrication serait ainsi ininterrompue sur une ligne de production monobloc. « Jusqu'ici, l'ALD n'est en général utilisé que pour l'une ou l'autre étape de la fabrication, ce qui nécessite une intégration de différents procédés pouvant s'avérer complexe. Notre technologie « tout ALD » est couverte par quatre brevets pour lesquels des demandes ont été déposées à l'INPI », nous a ainsi confié Eric Dutitre, président, directeur des opérations et concepteur des machines d'EnHelios NanoTech.

La société compte proposer, à terme, deux gammes de lignes de production, des pilotes pour laboratoire et des lignes pour la fabrication industrielle, ces dernières se déclinant selon diverses configurations, automatiques ou semi-automatiques, pour la production de films PV sur rouleaux ou de panneaux PV découpés et encapsulés, etc. Elle a signé un pré-accord d'usage du nom EnHelios Caraïbes début octobre en vue de la création d'une structure indépendante avec une unité de production de films et de panneaux PV CIGS en Guadeloupe, et donc la vente de ses premières machines. Enfin, elle souhaite développer des partenariats avec des centres de R&D pour la mise au point de son procédé et des machines. Pour le photovoltaïque à couches minces, divers projets de R&D sont en cours en France notamment sur l'ALD mais aussi sur d'autres procédés à l'IRDEP (par exemple dans le cadre du projet ANR Ultracis) ainsi qu'à l'IPVF qui est désormais opérationnel dans ses nouveaux bureaux inaugurés le 29 septembre dernier à Antony, en attendant la mise en service du bâtiment IPVF en 2017.

* EnHelios NanoTech a été fondée par quatre personnes formant une équipe pluridisciplinaire avec, outre E. Dutitre, P. Genevée, directeur recherche et procédés (un spécialiste des procédés de dépôt de couches atomiques), J.-F. Bonnasies, directeur administratif et financier, et S. Chauffour, directeur marketing et commercial France.